Chemische Reaktion
Im Wesentlichen laufen folgende chemische Reaktionen ab:
An der Kathode entsteht gasförmiger Wasserstoff, der wegen der Explosionsgefahr abgeführt werden muss.
Aufbau der Eloxalschicht
Es werden drei Grundtypen von Oxidschichten unterschieden, die in Abhängigkeit vom verwendeten Elektrolyten und seinem
Rücklösevermögen gebildet werden.
1. Beim Hochglanzeloxalverfahren bewirkt der Einsatz eines bestimmten Elektrolyten einen simultanen Schichtbildungs- und
Wiederablösungsprozess, der auf dem Metall keine messbare Schicht zurücklässt, sondern eine glatte Oberfläche hervorruft.
2. Falls der Elektrolyt das gebildete Oxid überhaupt nicht lösen kann, erfolgt so lange ein Schichtwachstum, bis die
Feldstärke in der Schicht nicht mehr ausreicht. Die so genannten Oxidschichten vom Sperrschichttyp sind dünn, dicht, dielektrisch
und völlig undurchlässig.
3. Elektrolyten mit mittlerer Lösekraft, wie z.B. Schwefel-, Oxal-, Phosphor- und Chrom-säure, bilden eine Oxidschicht mit
porösem Charakter aus.
Zum Wachstum und Aufbau der Eloxalschicht wurden mehrere Theorien beschrieben, wobei das Modell von Keller, Hunter und Robinson die
allgemeine Anerkennung findet. Die Schichten bestehen aus vielen dichtgepackten, säulenartigen, hexagonalen Einzeloxidzellen, die
im Zentrum eine Pore besitzen. Die Poren reichen nicht ganz bis zum Grund der Zellen. Der untere porenfreie Bereich der Zellen bildet die
dichte, undurchlässige Grund- oder Sperrschicht, gefolgt von der porenhaltigen porösen Deckschicht.
